Aselta Nanographics réduit significativement les coûts de lithographie des circuits sub 32 nm tout en améliorant la qualité, grâce à des logiciels qui réduisent le temps d’écriture des masques et repoussent les limites théoriques de résolution des machines.
LA TECHNOLOGIE
En deçà de 32 nm, la lithographie représente 40 % du coût total de réalisation des circuits intégrés et nécessite la mise en place d’équipements de plusieurs dizaines de millions d’euros. En se concentrant sur cette étape-clé, Aselta Nanographics apporte aux industriels deux avancées majeures, leur permettant, d’une part, d’évaluer en avance de phase la performance de leur process de lithographie pour optimiser leur design et la qualité des masques ; et d’autre part, de corriger et gérer, pendant la production, les dérives optiques de la plate-forme de lithographie. Les limites en résolution des machines sont repoussées ; celles-ci peuvent être utilisées pour le noeud technologique suivant, sans nouvel investissement.
Dans le cadre d’un laboratoire commun avec le Leti, institut de CEA Tech, la société se prépare aux prochains noeuds technologiques et rend possible de nouvelles avancées technologiques, par exemple, la gravure directe par faisceaux d’électrons. Elle exploite en exclusivité plusieurs brevets Leti.
Leti Start-up
Contact : serdar.manakli@aselta.com